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    電子、光學工業超純水係統


    一、概述
         我公司生產的各種反滲透、EDI設備廣泛應用於電子工業如:單晶磕半導體、光電子器件、光盤、印刷電路板、鍍膜玻璃、導電玻璃、液晶顯示器、集成電路塊、顯像管、玻亮、電鍍、計算機硬盤等製造工藝用純水的製備。生產出符合電子生產標準的水,控製部份采用進口PLC控製,可實現自動起停,加藥,及衝洗,自動監測各種運行參數,水處理係統實現了全自動控製,無需專人管理。

    二、典型工藝流程

    1、源水箱→源水泵→機械過濾器→活性炭過濾器→軟水器(根據水的硬度來選用)→精密過濾器→高壓泵→反滲透裝置(根據源水水質可設單級或雙級)→中間水箱→混合離子交換器(單級或雙級)→終端過濾器→產品水箱→用水點
     
    2、源水箱→源水泵→機械過濾器→活性炭過濾器→軟水器(根據水的硬度來選用)→精密過濾器→高壓泵→反滲透裝置(根據源水水質可設單級或雙級)→中間水箱→EDI→產品水箱→用水點
    實際工作中根據源水質和出水要求適當取舍或添加,確定工藝!


    三、適用範圍: 
         半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路
         LCD、EL、PDP、TFT、玻殼、顯像管
         超純材料和超純化學試劑           
         光導纖維、光盤

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